人民财经新闻11月19日消息：近日，宏天股份子公司宏雷光学自主研发的应用于半导体掩模版领域的直写光刻设备和TGV玻璃基板直写光刻设备顺利下线、包装、发运，发往有订单需求的客户手中。新交付的掩模直写曝光系统是高精度激光直写曝光系统，最小线宽/线距分辨率为2.5μm，对位精度为±2μm。我们响应客户对3μm L/S掩模产品的量产光刻需求。同时下线交付客户的另一台直写光刻机，用于印刷基板领域TGV玻璃。最小线宽和线距分辨率为6μm，对位精度为±4μm。我们满足510mm x 51的生产需求5mm TGV 玻璃基板。
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